日本三丰物镜M Plan Apo 20× 378-804-3

Mitutoyo三丰显微镜单元
日本三丰物镜(紫外、近紫外、可视、近红外)
用于半导体、电子、液晶相关等产品的生产
品质管理系统、实验研究装置使用的光学系统
外观检查系统的嵌入式光学单元
微生物等运动物体的观察 等

 明视场用物镜
M Plan Apo /
M Plan Apo HR
VMU WIDE VMU FS70 MF-U Hyper MF-U

 M Plan Apo
M Plan Apo 1× ※1 378-800-3 0.025 11.0 200 11.0 440 24 4.8×6.4 300
M Plan Apo 2× ※2 378-801-6 0.055 34.0 100 5.0 91 12 2.4×3.2 220
M Plan Apo 5× 378-802-6 0.14 34.0 40 2.0 14 4.8 0.96×1.28 230
M Plan Apo 7.5× 378-807-3 0.21 35.0 26.67 1.3 6.2 3.6 0.64×0.85 240
M Plan Apo 10× 378-803-3 0.28 34.0 20 1.0 3.5 2.4 0.48×0.64 240
M Plan Apo 20× 378-804-3 0.42 20.0 10 0.7 1.6 1.2 0.24×0.32 270
M Plan Apo 50× 378-805-3 0.55 13.0 4 0.5 0.9 0.48 0.10×0.13 290
M Plan Apo 100× 378-806-3 0.70 6.0 2 0.4 0.6 0.24 0.05×0.06 320

 紧凑、轻巧的相机观察显微镜
适用于金属、树脂、印刷表面、微小运动物体等各种观察对象。
·适用于使用YAG激光(近红外、可见、近紫外、紫外)的微细加工※ ※不保证激光振荡器配备系统的综合性能和安全性。
半导体电路的切割、修整、修正、打标、薄膜(绝缘膜)的去除和加工、液晶彩色滤光片等的修复(修正缺陷)等。
·适用于红外光学系统※
硅类的内部观察、红外光谱特征分析等。※另需红外光源和红外摄像机等。
·反射照明光学系统标配带孔径光阑远心照明
需要均匀照明的图像处理。可用于尺寸测量、形状检查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B强化了显微镜主体的刚性和综合性能(与以往产品相比)
·除标准规格外，还可按照需求设计制作双相机、双倍率(低倍率、高倍率)等产品